China dilaporkan telah mengembangkan prototipe mesin litografi ultraviolet ekstrim (EUV) yang dibuat oleh mantan karyawan ASML, perusahaan pemasok semikonduktor asal Belanda. Mesin ini diyakini akan menjadi kunci dalam produksi chip semikonduktor canggih yang dapat mendukung kecerdasan buatan.
Menurut laporan Reuters, prototipe mesin EUV tersebut telah selesai dirakit oleh tim di Shenzhen dan saat ini sedang menjalani tahap pengujian. Mesin ini mampu memancarkan cahaya ultraviolet ekstrim yang sangat diperlukan dalam proses pembuatan chip.
Teknologi EUV dan Peranannya
Litografi ultraviolet ekstrim adalah teknologi yang sangat kompleks dan menjadi inti produksi chip oleh perusahaan besar seperti Intel dan TSMC. Mesin EUV memungkinkan pembuatan chip dengan skala miniatur sangat kecil sehingga meningkatkan performa dan efisiensi produk semikonduktor.
Mesin EUV buatan China masih dalam tahap awal dan belum memproduksi chip secara massal. Namun, kemampuannya menghasilkan cahaya ultraviolet ekstrim menandai kemajuan besar dalam penguasaan teknologi ini.
Strategi China dalam Industri Semikonduktor
China menargetkan produksi chip berbasis EUV secara mandiri mulai tahun 2028. Namun, beberapa analis memperkirakan capaian tersebut baru akan terlaksana sekitar tahun 2030. Target ambisius ini sejalan dengan fokus Presiden Xi Jinping untuk mengurangi ketergantungan China pada teknologi asing, terutama dari Amerika Serikat.
Seorang sumber kepada Reuters menegaskan, “Tujuannya adalah agar China mampu membuat chip canggih menggunakan mesin yang sepenuhnya dibuat di dalam negeri.” China ingin memberdayakan rantai pasokannya tanpa campur tangan dari pihak luar.
Pengaruh Mantan Insinyur ASML
Prototipe mesin EUV ini dikembangkan oleh mantan insinyur ASML yang kini bekerja di China. Keahlian mereka dianggap sangat penting karena ASML merupakan pemain utama dalam teknologi litografi ini dan selama ini membatasi aksesnya ke pasar China.
Langkah ini memperlihatkan bagaimana tenaga ahli asal ASML berperan dalam mempercepat kemajuan teknologi litografi China. Pengalaman dan pengetahuan teknis mereka membantu melewati sejumlah hambatan teknis yang selama ini dinilai sulit.
Dampak Global dan Persaingan Teknologi
Jika mesin EUV buatan China ini benar berfungsi dan bisa diproduksi secara massal, maka negara tersebut akan menguasai teknologi strategis jauh lebih cepat dibanding perkiraan analis sebelumnya. Hal ini berpotensi merubah peta persaingan industri semikonduktor global.
Teknologi EUV selama ini menjadi kendali pihak Barat dan digunakan sebagai instrumen negosiasi dalam konflik dagang dan teknologi antara Amerika Serikat dan China. Keberhasilan China dalam bidang ini dapat mengubah dinamika perdagangan serta keamanan teknologi.
Fakta Penting Mengenai Mesin EUV China
- Mesin EUV China dikembangkan oleh mantan insinyur ASML.
- Prototipe sudah selesai pada awal tahun ini dan sedang dites.
- Kemampuan mesin sudah mencapai pancaran cahaya ultraviolet ekstrim.
- Target produksi chip dengan mesin ini dimulai pada 2028, meskipun realistis 2030.
- Langkah ini bagian dari strategi nasional untuk membuat chip secara mandiri.
Pengembangan mesin EUV ini menunjukkan betapa pentingnya peningkatan kemampuan teknologi dalam industri semikonduktor bagi China. Perkembangan ini sama pentingnya dengan gerak maju negara lain yang sudah mapan dalam pasar chip global. China kini tampak semakin serius mendekati kemandirian teknologi yang selama ini sulit dicapai.
